ams OSRAM qualifiziert AIXTRONs G5+ C‑ und G10-AsP-Anlagen auf
200mm-Wafern für MicroLED-Anwendungen
ams OSRAM (SIX: AMS), ein weltweit
führender Anbieter von optischen Lösungen, und AIXTRON SE (FSE: AIXA), ein
führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie,
gaben heute bekannt, dass ams OSRAM die AIXTRON-AIX-G5+ C‑ und
G10-AsP-MOCVD-Anlagen auf 200-mm-Wafern für eine MicroLED-Anwendung
qualifiziert hat.
Die MOCVD-Anlage AIX G5+ C und die neue Anlage G10-AsP der AIXTRON SE
bieten die AIXTRON-Planeten-Technologie, die den Weg für die nächste
Generation hochauflösender MicroLED-Displays ebnet. Im Frühjahr 2022 hatte
ams OSRAM Pläne angekündigt, zusätzliche Fertigungskapazitäten auf Basis
200 mm zu schaffen, die die Produktion von LED und MicroLED an seinem
bestehenden Standort in Malaysia ermöglichen. Die MOCVD-Anlagen sollen
dazu beitragen, die Massenproduktion von MicroLED für eine neue Generation
von Display-Anwendungen zu ermöglichen.
„AIXTRON und ams OSRAM arbeiten seit langem zusammen, und wir sind mit den
Leistungs‑ und Qualitätsstandards der Anlagen vertraut. Für ein
ehrgeiziges Projekt wie die Entwicklung und Produktion von MicroLED für
AsP‑ und GaN-Bauelemente benötigen wir genau einen solchen Partner an
unserer Seite“, sagt Robert Feurle, Executive Vice President und Leiter
der Business Unit Opto Semiconductors bei ams OSRAM
Dr. Felix Grawert, CEO und Präsident der AIXTRON SE, fügt hinzu: „Die
Qualifizierung von G10-AsP und AIX G5+ C bei ams OSRAM ist ein sehr
wichtiger Meilenstein in unserer Unternehmensgeschichte. ams OSRAM ist ein
LED-Hersteller von Weltrang und perfekt aufgestellt, um die von Grund auf
neue Technologie zu ermöglichen, die auf den Markt kommen wird. Wir stehen
an der Schwelle eines Technologiewandels fort von herkömmlichen
Display-Technologien und hin zu einer neuen Art von MicroLED-Displays.
AIXTRON betritt nun einen der Wachstumsmärkte der Zukunft mit enormem
Potenzial, und dafür haben wir den perfekten Partner an unserer Seite.“
MicroLED bieten erhebliche Vorteile für die Display-Technologie, darunter
höhere Pixeldichte, längere Lebensdauer, höhere Helligkeit, schnellere
Schaltgeschwindigkeit und ein breiteres Farbspektrum. Ein weiterer
wichtiger Vorteil ist der relativ geringe Energieverbrauch, der die
MicroLED ideal für die kommenden Generationen kleinerer Displays für
Endverbrauchergeräte qualifiziert, die nur sehr eingeschränkten Platz für
Batterien bieten.
Die MicroLED-Produktion geht mit speziellen Anforderungen einher: Die
Volumenproduktion beinhaltet ein spezielles Transferverfahren, bei dem
mehrere tausend LED-Chips (Arrays) in einer Größenordnung, die in
Mikrometern gemessen wird, aufgenommen und übertragen werden. Jeder Defekt
kann zu toten Pixeln führen, die ein ganzes Array unbrauchbar machen
können. Daher ist ein nahezu fehlerfreies Epitaxieverfahren erforderlich,
das Defekte minimiert sowie eine wirtschaftliche Produktion von MicroLED
mit hoher Ausbeute ermöglicht.
Die neue Epitaxieanlage G10-AsP von AIXTRON wurde eigens für die
Anforderungen dieser Anwendung entwickelt: Es handelt sich um den weltweit
ersten vollautomatischen AsP-Reaktor, der sich durch vollautomatische
Wafer-Beladung von Kassette zu Kassette sowie einen auf In-situ-Ätzung
basierenden Reinigungsmechanismus auszeichnet. Zusammen haben diese beiden
Merkmale erheblichen Einfluss auf das Ertragsergebnis. Darüber hinaus
bietet die AIXTRON-Anlage die Vorteile der Batch-Reaktor-Technologie: Sie
ermöglicht die niedrigsten derzeit auf dem Markt erhältlichen
Produktionskosten pro Wafer und den höchsten Durchsatz pro Reinraumfläche.
Gleichzeitig verfügt das neue Tool über eine präzise Durchfluss‑ und
Temperaturregelung, die beste Materialgleichmäßigkeit bei jedem Durchgang
ermöglicht.