SEZ Gruppe mit Rekordquartal – Neuer FEOL-Prozess vorgestellt

• Vorläufiger Nettoumsatz von CHF 99 Mio.
• Auftragseingang von CHF 104 Mio.
• EBIT-Guidance für das zweite Quartal  auf rund 7 Prozent erhöht
• Durchbruch in Front-End-of-Line (FEOL) mit neuem ESA™- Prozess

Die SEZ Gruppe (SWX Swiss Exchange: SEZN) erzielte im zweiten Quartal 2006 neue Bestmarken bei Nettoumsatz und Auftragseingang. Der vorläufige Nettoumsatz übertraf mit CHF 99 Mio. das Vorquartal um 44 Prozent;  der Auftragseingang nahm um 14 Prozent auf CHF 104 Mio. zu. Die Erwartung für die EBIT-Marge im zweiten Quartal wird von bisher 5 Prozent auf rund 7 Prozent angehoben.

Zudem ist SEZ mit dem neuen ESA™-Prozess (Enhanced Sulfuric Acid) der Durchbruch in einem der wichtigsten Bereiche des FEOL-Marktes, dem Entfernen von Photolacken, gelungen. Das Entfernen von Photolacken entspricht rund 40 Prozent aller Front-End-of-Line (FEOL) Nassprozessschritte. Der neue Prozess, der anlässlich der bedeutendsten internationalen Messe für Halbleiter-Equipment, Semicon West, in San Francisco (USA), vorgestellt wird, ermöglicht erstmals das nasschemische Entfernen von Photolacken auf Einzelscheiben-Basis. Anlagen für die Volumenfertigung stehen ab dem vierten Quartal 2006 zur Verfügung.

Quartalskennzahlen (ungeprüft)

*vorläufig

Kennzahlen nach 6 Monaten (ungeprüft)

*vorläufig

Durchschnittliche Umrechnungskurse Januar – Juni 2006:
EUR/CHF 1,56292; USD/CHF 1,27051

Terminavis
17. August 2006  Medieninformation und Telekonferenz zum Ergebnis der ersten sechs Monate 2006